上海申弘閥門有限公司
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半導體級高真空球閥 |
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半導體級高真空球閥 半導體級高真空活套法蘭球閥 半導體級高真空快接球閥 真空球閥 之前介紹JIS日標不銹鋼截止閥標準,現(xiàn)在介紹半導體級高真空球閥半導體行業(yè)對清潔度的要求基于實際應用, 介紹了半導體設備真空結構和真空室常用部件, 講述了He 質譜檢漏儀的使用方法。總結了真空檢漏的經驗, 闡述了微漏難檢的現(xiàn)狀。分析了磁控濺射臺和ICP 真空故障, 采用靜壓檢漏法和He 質譜檢漏儀檢漏法, 給出了零部件微漏導致這些設備抽不上高真空的結論。指出今后的發(fā)展方向是真空部件小型化, 以及根據(jù)設備特點來提高真空部件的可靠性。結果表明, 先排除干擾因素, 再細心檢漏, 可大大提高檢漏效率, 使設備盡快恢復正常。 半導體級高真空球閥引言
這類設備有PECVD, RIE, ICP 等。常涉及到特殊氣體和特殊反應物, 其真空室比較小, 常使用分子泵抽高真空。現(xiàn)以某ICP 為例進行說明, 真空結構如圖2, 圖2 真空室約30 L。出現(xiàn)故障后, 做3 min靜壓檢漏, 真空室壓強上升率超過允許值1.3 × 10- 1 Pa/ min, 達到10 Pa/min。用He 檢漏儀進行檢漏, 發(fā)現(xiàn)真空室頂針下方的疊片可伸縮波紋管漏, 拆下該波紋管, 維修后裝回, 檢漏發(fā)現(xiàn)該處已恢復正常。但是啟動設備進行靜壓檢漏時發(fā)現(xiàn)真空室壓強上升率為1 Pa/ min, 仍然大于允許值。繼續(xù)檢漏, 停了分子泵, 沒有停干泵, 發(fā)現(xiàn)門封漏率達1.4 × 10- 8 Pa.m3/ s。停了干泵, 真空室壓強由6.5 Pa很快上升到30 Pa, 顯然有氣體通過真空管道漏到真空室。打開粗抽閥與干泵相連的端口進行檢漏, 漏率為2 × 10- 8 Pa.m3/ s, 因此維修了該閥, 但是再檢漏沒有通過, 只能更換該閥門。將與分子泵相連的清洗閥拆下, 噴He 檢門閥1, 發(fā)現(xiàn)門閥1 漏率為5 × 10- 8 Pa.m3/ s。將清洗閥裝回, 拆下門閥修理后裝回, 門閥恢復正常。然后, 在維修模式下用干泵抽真空室和分子泵腔室, 在保證門閥兩側壓差<1 × 103 Pa的情況下打開門閥1, 使真空室和分子泵腔室連通, 檢測分子泵上的管道和閥門, 沒有發(fā)現(xiàn)新的問題。 半導體設備真空與檢漏 - ICP真空結構高真空(壓力)球閥是應用在真空系統(tǒng)中(又能適用一定的壓力下)開啟或切斷氣流的高真空球閥。本閥門結構緊湊,美觀,密封座補償設計。有自動補償密封座磨損功能,啟閉力矩小,壽命長等優(yōu)點。適用的工作介質為帶酸、堿性的各類氣體或液體。
真空球閥性能特點: 圖2 ICP 真空結構 上海申弘閥門有限公司主營閥門有:截止閥,電動截止閥zui后維修門封處的漏點。換門封密封圈, 漏率未見好轉。仔細檢查門封處的結構, 發(fā)現(xiàn)上蓋有一個螺釘向下突出, 導致門封密封不好。但是將螺釘拆下比較困難, 因為這需松開上蓋。上蓋連有水冷管道, 限制了上蓋移動范圍; 上蓋右側通過轉軸與真空室上平面相連, 同時上蓋與真空室下方用彈力大的彈力桿頂著, 導致拆卸安裝困難, 詳情見圖3。后來發(fā)現(xiàn)打開上蓋, 彈力桿的彈力變得很小,這時方便拆裝彈力桿; 松開兩塊檔板后露出兩個螺釘, 松開它們就可以松開轉軸。就這樣松開了上蓋, 將下墜的螺釘向上擰緊, 再將上蓋裝好, 門封恢復正常。啟動設備確認故障已修好。
半導體設備真空與檢漏 - ICP真空結構 圖3 ICP 真空室 6、結語 |